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Scénario d'application des unités de séparation d'air cryogénique :
Industrie de l'électronique et des semi-conducteurs
L'usine de séparation cryogénique de l'air joue un rôle essentiel dans l'industrie de l'électronique et des semi-conducteurs, notamment dans la production d'azote et d'oxygène de haute pureté.Dans ce scénario d’application, l’usine oxygène/azote/argon est utilisée pour séparer l’air atmosphérique en ses composants primaires par distillation cryogénique.L'azote et l'oxygène résultants sont ensuite purifiés pour atteindre les niveaux de pureté requis par l'industrie électronique.L'azote de haute pureté est utilisé pour diverses applications, notamment l'inertage, la purge et comme gaz porteur dans la production de composants électroniques.L’oxygène, quant à lui, est utilisé pour les processus d’oxydation, le dopage en phase gazeuse et comme source d’espèces réactives de l’oxygène dans la fabrication de semi-conducteurs.La capacité de l'usine de séparation cryogénique de l'air à fournir des gaz de haute pureté avec de faibles niveaux d'impuretés garantit la fiabilité et la qualité des processus de production d'électronique et de semi-conducteurs.
Unité de séparation d'air de taille moyenne et grande avec fiche technique à l'argon | ||||||
Modèle | Capacité de production | Pureté ou impureté de production | ||||
Oxygène | Azote | Argon | Oxygène | Azote | Argon | |
KDONAr-3200/6400/100 | 3200 | 6400 | 100 | 99.6 | ≤10 | ≤ 1,5 ppm d'O2 + 3 ppm de N2 |
KDONAr-6000 / 12000 / 180 | 6000 | 12000 | 180 | 99.6 | ≤10 | ≤ 1,5 ppm d'O2 + 3 ppm de N2 |
KDONAr-10000 / 20000 / 330 | 10000 | 20000 | 330 | 99.6 | ≤10 | ≤ 1,5 ppm d'O2 + 3 ppm de N2 |
KDONAr-20000 / 40000 / 650 | 20000 | 40000 | 650 | 99.6 | ≤10 | ≤ 1,5 ppm d'O2 + 3 ppm de N2 |
KDONAr-40000 / 80000 / 1200 | 40000 | 80000 | 1200 | 99.6 | ≤10 | ≤ 1,5 ppm d'O2 + 3 ppm de N2 |
KDONAr-80000 / 130000 / 2400 | 80000 | 130000 | 2400 | 99.6 | ≤10 | ≤ 1,5 ppm d'O2 + 3 ppm de N2 |